首页 科技快讯 日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米、价格便宜30%

日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米、价格便宜30%

来源:晰数塔互联网快讯 时间:2023年12月12日 04:15

尼康计划于2024年1月推出其最新款ArF 193纳米浸没式光刻机"NSR-S636E",该产品将提升生产效率和套刻精度。这款曝光机采用了增强型iAS设计,具有高精度测量、圆翘曲和畸变校正功能,并且重叠精度(MMO)超过2.1纳米。

这款新光刻机的分辨率为小于38纳米,镜头孔径为1.35,曝光面积为26x33毫米。与当前型号相比,它的整体生产效率可提高10-15%,每小时可生产280片晶圆,停机时间更短。在保持较高生产效率的前提下,新光刻机还能提供更高性能,在先进逻辑和内存、CMOS图像传感器、3D闪存等3D半导体制造中表现出色。

据悉,新光刻机采用成熟技术——“i-line”光源,并结合相关零件和技术的成熟化,价格相对竞品将便宜约20-30%。然而目前尚不清楚这款新型号能制造多少纳米级别的芯片。

过去,日本尼康、佳能和荷兰阿斯麦(ASML)曾是光刻机领域的三巨头,但随着科技发展及未跟上阿斯麦的193纳米浸没式光刻技术而逐渐没落。为了生存,尼康、佳能开始更加专注于难度较低、价格更低的成熟工艺光刻设备。

尽管如此,尼康和佳能并非一无是处。例如,佳能研发了无需使用EUV即可制造5纳米芯片的纳米压印技术(NIL)。

发布于:北京

相关推荐

尼康宣布推出全新ArF浸没式光刻机NSR-S636E,生产效率提升15%
尼康宣布推出ArF浸没式光刻机NSR-S636E,生产效率提升15%
尼康推出浸润式 ArF 光刻机 NSR-S636E,时隔二十多年再发新品
光刻机三巨头的殊途同归
日本禁令自食苦果,光刻机业务暴跌,日企:这是自断生路
「佳能牌」光刻机,值得期待吗?
日本公司“超车”ASML光刻机?华为、中芯早已投出一家隐形冠军
说实话,不是中国不要ASML的光刻机,是对方不卖给你
美国出口管制,ASML为什么敢说不?
光刻机之战

网址: 日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米、价格便宜30% http://www.xishuta.com/newsview101148.html

所属分类:行业热点

推荐科技快讯