IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设High-NA EUV研发中心
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时间:2023年12月14日 03:51IT之家 12 月 12 日消息,今天早些时候,纽约州长凯西・霍楚尔(Kathy Hochul )宣布与 IBM、美光、应用材料、东京电子(东京威力科创)等半导体巨头达成合作,投资 100 亿美元(IT之家备注:当前约 718 亿元人民币)在纽约州 Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。
▲ 图源:IBM根据声明,负责协调该设施建设的非营利性机构 NY Creates 将利用 10 亿美元州政府资金向 ASML 采购 TWINSCAN EXE:5200 光刻机。
纽约州表示,一旦机器安装完毕,该项目及其合作伙伴将开始研究下一代芯片制造。官方声明指出,该项目将创造 700 个工作岗位,并带来至少 90 亿美元的私人投资。
此外,官方还强调,这将是北美第一个也是唯一一个拥有 High-NA EUV 光刻系统的公有研发中心,将为开发和生产 2nm 节点甚至更先进的芯片铺平道路。
▲ 图源:IBM发布于:山东
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