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ASML 展示价值 3.8 亿美元的 High-NA EUV 光刻机,重达15万公斤

来源:晰数塔互联网快讯 时间:2024年02月11日 15:21

IT之家 2 月 11 日消息,全球芯片制造巨头 ASML 公司近日展示了其最新款芯片制造设备 ——High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机。这台价值 3.5 亿欧元(IT之家备注:当前约 27.2 亿元人民币)的庞然大物,重量相当于两架空客 A320 客机,被 ASML 公司宣称为芯片制造商参与人工智能热潮的“必备品”。

该系统已获得英特尔公司的订单,首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的 D1X 工厂,英特尔计划在 2025 年年底开始使用该系统进行生产。

High-NA EUV 光刻机能够在半导体上蚀刻出仅 8 纳米宽的线条,是上一代产品的 1/1.7。更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管,从而实现更快的处理速度和更高的存储容量,这对于人工智能工作负载至关重要。

ASML 首席执行官 Peter Wennink 上个月在接受彭博社采访时表示:“人工智能需要大量计算能力和数据存储。我认为如果没有 ASML,如果没有我们的技术,这是不可能实现的。这将成为我们业务的一大驱动力。”

作为唯一一家生产制造最先进半导体的设备供应商,ASML 的产品需求一直被视为行业健康状况的风向标。该公司上季度收到了创纪录的顶级 EUV 光刻机订单,显示了包括英特尔、三星电子和台积电在内的大客户对该技术的乐观预期。

ASML 发言人 Monique Mols 在公司位于荷兰费尔霍芬的总部举行的媒体参观活动中表示,安装这台重达 150,000 公斤的系统共计用时 6 个月,需要 250 个集装箱和 250 名工程师。

去年底 OpenAI 推出 ChatGPT 后,生成式人工智能领域的发展引爆了整个半导体行业的增长预期,ASML 自 2018 年以来一直在销售低数值孔径 EUV 光刻机,售价为 1.7 亿欧元(当前约 13.21 亿元人民币)。

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