HBM供不应求,美光广岛新厂2027年量产
6月13日消息,DRAM大厂美光去年就宣布计划在斥资6,000至8,000亿日原在日本广岛兴建DRAM新厂,预计2026年初动工、最快2027年底前完成厂房建设、机台设备安装并投入营运。
据了解,美光广岛DRAM新厂地点将紧邻已建成的Fab15。新厂初期规划为DRAM晶圆厂,未包含后段封装及测试,产能将着重于HBM产品。同时,美光广岛DRAM新厂还将首导入极紫外光(EUV)光刻设备,生产先进1-Gamma制程的DRAM,后续也将导入1-Delta制程,因此EUV设备安装数量将大幅增加,并多加采用调高无尘室。
至于广岛Fab 15是HBM晶圆量产厂区,负责前段晶圆生产及硅穿孔(TSV)制程,后段堆叠及测试制程由台湾的台中后段厂负责。另有市场消息传出,随着HBM需求扩张,台湾OMT(One Mega Taiwan)明年起将加入HBM晶圆量产厂区,投入晶圆生产及TSV制程。
研调机构TrendForce指出,由于HBM市场需求蓬勃发展,且生产良率较低、晶粒尺寸较大等因素,相同位产出的HBM相较DDR5约需消耗3倍投片量,且会排挤传统DRAM产能。
如果美光要加速HBM市场渗透,考虑到2025年产能已被客户预订一空,新厂建设需求势在必行。同时,美光计划到2025年HBM产品线市占率保持在20%~25%水平,目标提高至与传统DRAM相当。
这次广岛新厂也获得日本政府补贴,日本经济产业省去年10月宣布将提供美光1,920亿日原建厂及设备补贴,另针对生产成本最高补贴88.7亿日元、研发成本最高补贴250亿日元。
编辑:芯智讯-林子
发布于:上海
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