日企大举攻坚EUV光刻技术，砸90亿力夺半导体设备高地

本文来自微信公众号：芯东西（ID：aichip001），作者：董温淑，头图来自：pixabay

要想制造5nm及更先进芯片，离不开EUV（极紫外光）光刻技术，目前多家日本芯片设备制造商正积极争夺EUV适用的制造设备市场份额。

2020财年，全球第三大半导体设备制造商东京电子（Tokyo Electron）拨出1350亿日元（约合87.8亿人民币）用于EUV高端设备研发，这是东京电子本财年最大一笔研发支出。作为全球唯一一家EUV适用的芯片检测设备制造商，日本的Lasertec已获得658亿日元（约合43.4亿人民币）的订单。

一、EUV技术将为芯片制造设备市场带来近4000亿收入

芯片加工精度取决于光刻机光线的波长，光线波长越小，芯片精度越高。随着摩尔定律发展，芯片制造迈进10nm节点，波长13.4nm的EUV（极紫外光）就成为唯一的选择。

据《日本经济新闻》报道，EUV技术每年能够为芯片制造设备市场带来的价值超过6万亿日元（约合565亿美元、3970亿人民币）。

目前，荷兰光刻机制造商ASML在光刻机市场中占据主导地位，也是唯一能生产EUV光刻机的厂商。台积电、三星电子等全球领先的芯片制造商从2019年开始用ASML生产的EUV光刻机生产芯片。

另外，5G和其他先进技术的发展也导致高端芯片需求量增长，进一步驱动着EUV市场的发展。

在这一风口下，芯片设备制造商正努力开发与EUV光刻技术配套的其他设备。日本厂商成为这一领域的活跃者，正加大对EUV光刻检测设备、EUV光源设备的投入。

二、砸钱研发？赢订单？日本玩家看好EUV市场

东京电子是全球第三大半导体设备制造商，主要产品是光阻涂布及显影系统（coater/developer ）。在适用于EUV的大规模生产用光阻涂布及显影系统市场中，东京电子占据了全部市场份额。

2020财年，东京电子计划投入1350亿日元（约合12.5亿美元、87.8亿人民币）用于EUV设备的研发，该研发项目将于2020年3月31日结束。另外，东京电子计划拿出今年合并销售额的10%（预计为1.28万亿日元，约合843.9亿人民币），用于巩固其在EUV设备领域的前沿地位。

东京电子总裁河井俊树说：“如果EUV得到广泛应用，对于高端设备的需求将会增加。”

另一家日本半导体设备公司Lasertec凭借芯片检测设备从EUV技术风口中获利。从去年7月至今年3月，Lasertec赢得价值658亿日元（约合43.4亿人民币）的EUV适用检测设备订单，订单额比去年同期增长2.2倍，预计该设备的订单将占据Lasertec全年订单的三分之二。

Lasertec公司位于日本横滨，其产品能够在基于EUV技术的芯片生产过程中进行早期测试。目前，Lasertec是该领域唯一一家制造商。

三、日本EUV光源厂商拟打“翻身仗”

日本企业之间的竞争也在加剧。在电子束掩膜光刻设备市场，东芝集团旗下的NuFlare Technology、日本电子（JEOL）、 奥地利IMS Nanofabrication形成一个联盟，正在集中开发能够发射26万束激光的“多光束”设备。

为了防止被全球最大的光掩膜板制造商豪雅（Hoya）收购，今年一月份起，东芝加强对NuFlare Technology的控制，向后者增派25名工程师及其他管理者，以期在2020财年实现下一代EUV适用设备出货。

在EUV技术出现之前，日本建筑机械制造商Komatsu旗下子公司Gigaphoton，与Cymer并称为全球前两大曝光机用光源制造商。2013年，ASML收购了Cymer，Gigaphoton因此在曝光机用光源市场失去优势。

近期，Gigaphoton计划通过开发新的光源部件夺回市场份额，并拟在2022年ASML发布新一代EUV光刻机之前完成这一过程。

四、结语：EUV技术将加速芯片设备制造市场洗牌

根据国际半导体和材料协会（SEMI）和日本半导体设备协会的数据，在过去20年间，日本芯片设备制造商保持着30%的市场份额，2019年这一数据为31.3%。

日本的尼康和佳能一度主导着全球光刻机市场，但从2007年起被荷兰的ASML彻底超越，随后放弃了对EUV技术的研发。

近期，随着市场对先进制程芯片的需求加大，EUV技术随之迎来风口。东京电子等日本芯片制造设备厂商正积极布局，以期在新的市场格局中占据有利地位。Lasertec公司则从EUV风口中获利，其EUV适用的芯片检测设备大卖。

作为突破10nm制程节点必不可少的技术，EUV或将成为驱动芯片设备市场变化的一个关键因素。

目前，在芯片设备制造市场中，“赢者通吃”的趋势正越发强劲，制造过程中的挑战也日益增多。由EUV技术引发的新一代产品变革，将加速削减芯片设备制造商的数量。

本文来自微信公众号：芯东西（ID：aichip001），作者：董温淑

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