首页科技快讯美国退出EUV，ASML的内部思考，中国光刻机的崛起

美国退出EUV，ASML的内部思考，中国光刻机的崛起

来源：晰数塔互联网快讯时间：2023年08月25日 13:19

美国的技术发展轨迹再次走上了不同的道路。这种不同的意见使作为光刻技术中坚力量的ASML进行了深刻的认识。这一不同的意见已成为中国光刻机供应预期翻番的催化剂。

最近的报告指英特尔在DSA技术方面的突破性成就，这是一种巧妙地绕过EUV光刻要求的芯片制造工艺。这一事件标志着芯片制造商又一次远离极紫外光刻技术。

毫无疑问，这一发展对ASML公司来说是一个沉重的打击，ASML公司一直坚持美国设定的技术要求。

首先，一个明显的趋势出现了，芯片制造商正在努力寻找方法来解决与EUV光刻相关的复杂性。最初进入这个门槛是由日本佳能策划的，因为他们成功地将技术推向了无euv光刻机械的研发。

佳能在开创性的纳米压印技术(NIL)方面取得的胜利已经超越了10纳米门槛的限制，其壮志坚定地设定为实现非凡的5纳米工艺。这一创新已被日本公司铠侠欣然接受。

对困扰日本芯片行业的深入研究表明，采用零电压技术不仅是一种偏好而且是势在必行的。佳能和尼康是日本光刻行业的技术企业，主要投资于推进干式光刻技术。

然而，凭借其浸没式光刻技术，ASML和TSMC迅速超越了日本同行，最终预示着日本光刻行业的衰落。随后在美国出现的ASML的EUV光刻机只是加剧了这种下降。

面对技术上被超越的现实，佳能策略性地接受了NIL技术作为确保其生存的生命线。

美国芯片制造商美光公司是一家著名的芯片技术企业，在不依赖EUV光刻设备的情况下，熟练地开创了1β工艺。美光的创新追求集中在优化芯片性能和通过利用现有的DUV光刻机降低生产成本。

鉴于EUV和DUV光刻机之间的巨大价格差异，前者的溢价是后者的三倍，这一策略选择显得尤为突出。此外，与材料和生产相关的辅助费用只会加剧这种成本差异。

最近英特尔(Intel)的事件突显了这一普遍趋势。英特尔追求DSA技术的根本目标是为了降低生产成本。英特尔曾经是一家风光的企业，现在却面临着衰落的安排，而AMD则在其Zen架构的翅膀上展翅高飞，急切地追求市场。

AMD的优势已经跨越了桌面计算的边界，将其控制范围扩展到服务器芯片的市场，这是一个传统上由英特尔控制的主要利润。这种模式的转变给英特尔带来了沉重的挫折，其连续三个季度前所未有的财务亏损就是明证。

为了应对这种低迷，英特尔采取了一系列削减成本的措施。去年裁员1万多人，这只是冰山一角。最近转向DSA技术与进一步削减生产成本的总体目标相一致。

然而，这一策略操作不仅仅是为了避免额外收购EUV光刻设备。它有望通过DSA技术的应用来提高芯片的性能。

ASML公司，这家公司一直尽职尽责地遵守美国的要求。早在2018年，美国就不要让ASML不得向中国芯片制造商销售EUV光刻机。

随后，这一要求扩大到不要向中国销售低于14纳米门槛的DUV光刻机。目前正在讨论的是将这一限制扩展到28纳米以下的DUV光刻机。

因此，ASML在中国市场的销售额占有率从2022年第一季度的30%下降到了10%。尽管出现了这些亏损，但ASML的整体表现仍然值得称赞，这促使该公司淡化了在中国市场失去立足点的影响。

然而，中国芯片产业的自给自足不断升级，加上芯片进口的相应减少——去年的进口量达到了惊人的1500亿件。

这一连锁反应波及了众多美国芯片公司的资产负债表，最终导致芯片申请量下降，甚至迫使台积电重新调整其代工业务的定价。这一连串的影响迫使台积电撤回芯片产能，导致对光刻机的需求减少，从而给ASML蒙上了阴影。

美光(Micron)和英特尔(Intel)这两家美国芯片企业接连退出EUV光刻领域，给ASML蒙上了一层长长的阴影。这些光刻厂已经成为了ASML的经济支柱，而美国芯片制造商需求的减少给ASML带来了巨大的压力。

美国芯片制造商完全无视ASML对美国要求的坚定遵守，他们现在正热切地寻找ASML产品的替代品。这种模式的转变凸显了ASML明显的悔意。

在此背景下，ASML第二季度业绩突显出一个策略拐点。在此期间，光刻机在中国的销量从区区8台飙升至令人印象深刻的27台。这一经过计算的激增凸显了ASML不断发展的理解，反映出对美国要求的坚定遵守可能不再是可持续的认识。

这种转变意味着一种更微妙的方法，即ASML通过培养合作关系来优先考虑增长。这一策略重心进一步体现在ASML对蓬勃发展的中国市场的坚定关注。

发布于：山东