首页科技快讯纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：无法卖到中国！

纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：无法卖到中国！

来源：晰数塔互联网快讯时间：2023年11月06日 17:06

11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10。由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，或将成为中国绕过美国限制来制造尖端制程芯片的可行方案。但是，佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示，该设备无法出口到中国。

尖端制程严重依赖EUV光刻机

总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商，同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备，每台成本高达数亿美元。

虽然目前在光刻机市场，还有尼康和佳能这两大供应商，但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市场份额仅有10%左右，ASML一家占据了90%的市场份额，并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。

目前7nm以下的先进制程芯片的大规模生产主要都是依赖于ASML的EUV光刻机，但只有少数现金充裕的公司才有能力投资购买这些EUV光刻机。

即便如此，EUV光刻机仍因为其在尖端芯片制造供应链中的关键地位而一直受到出口管制审查。多年前，美国就有向其盟友——荷兰施压，要求其限制EUV设备出口到中国。今年6月30日，荷兰政府正式出台了新的半导体出口管制措施，ASML被禁止向中国客户出口EUV系统以及先进的浸没式DUV系统。

这也意味着中国想要突破到5nm，甚至更尖端的制程工艺将会面临极大的困难。

绕过EUV，佳能纳米压印技术可量产5nm

今年10月中旬，佳能公司宣布开始销售基于“纳米压印”（Nanoprinted lithography，NIL）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。

此前佳能一直专注于制造不太先进光刻机产品。直到2014年，佳能收购了Molecular Imprints股份有限公司，开始押注纳米压印技术。近十年来，佳能一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社（DNP）和存储器芯片制造商铠侠（Kioxia）合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。

佳能表示，这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 的光刻机不同，其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，而是更类似于印刷技术，直接通过压印形成图案。