首页专业知识 “光刻机第一股”华卓精科冲击科创板遇阻，专利背靠清华，商业化之路道阻且艰

“光刻机第一股”华卓精科冲击科创板遇阻，专利背靠清华，商业化之路道阻且艰

来源：晰数塔互联网快讯时间：2021年08月02日 14:27

上交所科创板上市委员会2021年第51次审议会议于29日上午召开，审议结果显示，北京华卓精科科技股份有限公司（以下简称“华卓精科”）首发被暂缓审议。这是今年上会遭暂缓审议的第7家IPO企业。

被誉为国产光刻机“第一股”的华卓精科，虽然不生产光刻机整机，但华卓精科生产的光刻机核心子系统双工件台，是除荷兰ASML以外全球唯一掌握光刻机双工件台技术的。

华卓精科本次拟发行股票不超过3200万股，募集资金约7.35亿元，将用于半导体装备关键零部件研发制造项目、超精密测控产品长三角创新与研发中心建设、光刻机超精密位移测量及平面光栅测量技术研发项目等。

华卓精科成立于2012年，以超精密测控技术为基础，研究、开发以及生产超精密测控设备部件、超精密测控设备整机并提供相关技术开发服务，其中超精密测控设备部件产品包括精密运动系统、光刻机双工件台模块、静电卡盘和隔振器等，整机产品包括晶圆级键合设备、激光退火设备等。应用领域覆盖集成电路制造、超精密制造、光学、医疗、3C制造等行业。

华卓精科主要产品包括精密运动系统、光刻机双工件台模块、静电卡盘和隔振器等超精密测控设备部件以及晶圆级键合设备、激光退火设备等超精密测控设备整机，以及上述部分主要产品的技术开发服务。

股权结构方面，朱煜为华卓精科董事、核心技术人员、首席科学家，朱煜实际控制公司股份合计54.23%。朱煜为华卓精科控股股东、实际控制人。1965年出生的朱煜2001年毕业于中国矿业大学，博士学历；2004年10月至今任清华大学教授。曾在北方华创独董，目前兼任芯源微独董等职务。

华卓精科的掌舵者，是一位60后清华教授——朱煜。1979年，14岁的朱煜考上了北京师范大学，18岁在中国矿业大学担任讲师。2001年，朱煜到清华大学进修博士后，开始了有关光刻机的研究工作。随后十余年间，他一边在清华任教，一边带领着团队一纳米一纳米地攻克技术难关，期间多次面临经费紧张的囧境。2012年，朱煜带着团队走出象牙塔，成立了华卓精科。9年磨一剑。如今华卓精科生产的光刻机双工件台，打破了荷兰 ASML公司在光刻机工件台上的技术垄断，成为世界唯二掌握双工件台核心技术的公司。站在背后的投资方，也具有浓厚的清华色彩——种子轮投资方且最大机构股东水木创投是清华大学下设的产业化投资管理平台。

虽然被誉为A股“光刻机第一股”，但华卓精科并不能直接生产光刻机整机，其主要产品为光刻机双工件台、超精密测控装备及关键零部件等，而工件台、投影物镜和光源是光刻机的三大核心子系统，其中工件台成本占到整个光刻机成本的10%-20%。

华卓精科透露，作为国内首家可自主研发并实现商业化生产的光刻机双工件台供应商，其为上海微电子提供光刻机双工件台，并长期保持良好的合作关系，共同进行IC前道光刻机核心技术的研发和IC前道光刻机产品的生产，占据了中国商用光刻机双工件台的主要市场份额。

目前华卓精科的光刻机双工件台仅有上海微电子一家客户，并且该产品仍处于小批量定制生产阶段，尚未实现规模化量产。同时，其晶圆级键合设备、激光退火设备等产品还与上海微电子存在竞争。

据了解，全球光刻机市场主要由境外厂商主导，中国光刻机市场仍处于起步阶段。光刻机工件台是光刻机的核心子系统之一，国际主要光刻机整机生产厂商为ASML、尼康、佳能，前述三家厂商合计市场份额超过90%。公司向这三家销售光刻机双工件台的机会较小。上海微电子在光刻设备领域代表国内最先进的技术，是国内领先的半导体设备厂商。

华卓精科表示，目前公司光刻机双工件台产品客户单一。光刻机双工件台模块及技术开发客户仅有上海微电子，且目前国内客户仅有上海微电子有该类产品采购需求，公司光刻机双工件台模块及技术开发销售对其具有依赖性，2018年、2020年实现收入795.00万元、1737.74万元。另外，目前华卓精科DWS系列光刻机双工件台累计发货4台，目前仍处于与上海微电子光刻机整机集成、测试阶段，尚未通过上海微电子最终验收。

业绩方面，2018年-2020年，华卓精科营收分别为8570.92万元、1.21亿元和1.52亿元；净利润分别为1512.36万元、2087.24万元和1242.83万元。华卓精科表示，报告期内，公司的晶圆级键合设备、激光退火设备和光刻机双工件台处于产品商业化初期，客户相对较少，尚未形成规模化产品销售，导致公司整体销售规模较小，销售结构尚未稳定，存在较大的变动。

冲刺科创板之前，华卓精科曾于2015年在新三板挂牌，并于2019年2月摘牌。华卓精科本次拟募集资金约亿7.35元，将用于半导体装备关键零部件研发制造项目、超精密测控产品长三角创新与研发中心建设、光刻机超精密位移测量及平面光栅测量技术研发项目等。

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